金宏气体：超1亿标方/年氢气产能 为14个加氢站供应高纯氢气

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在这一节中，气体氢气气我们将概述几种用于生产大面积单晶外延薄膜的新兴的外延技术，它们不同于前一节中讨论的传统技术。[2]然而，超1产能纯氢两种材料之间的晶格失配较大并不一定导致材料质量的恶化。

这些外延生长方法通过控制扩展缺陷的密度，亿标应高如螺纹位错和堆积缺陷，使得多种复合半导体可以在晶格不匹配的衬底上生长。随后，站供对替代计算架构、电路、设备和材料的需求激增，以提高计算系统的计算性能和能源效率。范德瓦尔斯外延技术是一种二维材料辅助外延技术，金宏加氢近年来因其晶格失配大于60%的异质外延薄膜生长的可能性而受到人们的关注。

[9]因此，气体氢气气后续的外延必须经过化学和机械抛光。虽然采用先进的外延技术的单片集成是耦合不同材料的最简单方法，超1产能纯氢但异质外延生长的外延薄膜的材料质量仍然不理想。

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